| Darbības rādītāji | Pārbaudes standarti | Parastie grafīta bloki, kas nav{0}}antioksidanti (Tirgus galvenais virziens) |
Standarta tipa antioksidantu grafīta bloki (Nozares pamatmodelis) |
| Fiksēts oglekļa saturs | GB/T 3521-2021 | 99.90% | 99.95% |
| Pelnu saturs | GB/T 1429-2018 | Mazāks par vai vienāds ar 100 ppm | Mazāks vai vienāds ar 50 ppm |
| Tilpuma blīvums | GB/T 24528-2009 | 1,72–1,76 g/cm³ | 1,78–1,82 g/cm³ |
| Normālas temperatūras spiedes izturība | GB/T 3074.1-2017 | Lielāks vai vienāds ar 45 MPa | Lielāks vai vienāds ar 55 MPa |
| Lineārās izplešanās koeficients | 2,8 ~ 3,2 × 10⁻⁶/ grāds | 33143 | 2,5 ~ 2,8 × 10⁻⁶/ grāds |
| Termiskā šoka ciklu skaits | Termiskā šoka ciklu skaits | Mazāks par vai vienāds ar 15 | Lielāks par vai vienāds ar 35 |
| Kalpošanas laiks (grafitizācija pie 2200 grādiem) | Rūpnieciskie mērījumi | 200~300 | 700~1200 |
Galvenās pielietojuma nozares un scenāriji
1. Pusvadītāju un elektronisko materiālu rūpniecība
Viena -kristāla silīcija/polikristāliskā silīcija ražošana: izmanto kristālu augšanas krāsnīs ar tīrību 99,999% vai augstāku, nodrošinot, ka silīcija kristāli ir brīvi no piemaisījumu piesārņojuma un kontrolē pretestības viendabīgumu.
Pusvadītāju mikroshēmu ražošana: tīģelis vakuuma pārklāšanai, piemēram, alumīnija iztvaicēšanai un vara savienošanas procesiem, lai nodrošinātu plēves slāņa tīrību un viendabīgumu
Elektroniskā keramikas saķepināšana: pjezoelektriskās keramikas un dielektriskās keramikas vakuuma saķepināšana, stabila augstā temperatūrā, lai nodrošinātu keramikas konsekventas elektriskās īpašības
2. Aviācijas un augstas temperatūras sakausējumu rūpniecība
Titāna sakausējumi / niķeļa -bāzes sakausējumi augstās
Grūti{0}}kausējamu-metālu apstrāde: metālu ar kušanas temperatūru > 2000 grādiem, piemēram, volframa, molibdēna un tantala, vakuumkausēšana, lai nodrošinātu materiālu blīvumu un tīrību.
Īpaši funkcionāli materiāli: piemēram, augstas -temperatūras supravadoši materiāli un formas atmiņas sakausējumu vakuuma termiskā apstrāde, lai saglabātu materiāla mikrostruktūras stabilitāti.
3. Dārgmetālu un augstas -tīrības pakāpes metālu rūpniecība
Augstas-tīrības zelta/sudraba/platīna kausēšana: dārgmetālu iztvaikošanas zudumu samazināšana vakuumā (mazāk par vai vienāds ar 0,005%), ko izmanto augstas-tīrības dārgmetālu priekšmetu sagatavošanai elektronikas rūpniecībai.
Reto metālu attīrīšana: Vakuuma destilācija reaktīvo metālu, piemēram, litija, berilija un rubīdija, attīrīšanai, lai novērstu reakciju ar gaisu un palielinātu tīrību līdz 99,999%+
Dārgmetālu atgūšana: efektīva piemaisījumu atdalīšana vakuumā, lai izvairītos no sekundārā piesārņojuma, ar reģenerācijas ātrumu līdz 99,9%+
4. Jauna enerģijas materiālu nozare
Litija -jonu negatīvo elektrodu materiāli: mākslīgā grafīta grafitizācija augstā-temperatūrā (2800 grādi), uzlabojot kristāliskumu un vadītspēju, izmanto augstas-jaudas akumulatoriem
Cietvielu-elektrolīti: vakuuma saķepināšana sagatavošanai, nodrošinot materiāla jonu vadītspēju, piemērota nākamās-paaudzes cietvielu-akumulatoriem
Ūdeņraža enerģijas materiāli: ūdeņraža uzglabāšanas sakausējumu vakuumkausēšana, lai novērstu oksidēšanos, palielinātu ūdeņraža uzglabāšanas jaudu un cikla stabilitāti
Galvenās stiprās puses
Izvēlieties sev piemērotāko plānu.
Vakuuma pirmapstrāde{0}}
Pirms pirmās lietošanas reizes nepieciešams 2 stundas turēt vakuuma krāsnī 1000 grādu temperatūrā, lai noņemtu atlikušās gāzes un nodrošinātu stabilu vakuuma līmeni.
Atmosfēras kontrole
Augstā temperatūrā (＞2000 grādi) ieteicams piepildīt ar argonu (0,01-0,1 MPa), lai samazinātu grafīta sublimācijas ātrumu un pagarinātu kalpošanas laiku.
Izvairieties no saskares ar spēcīgām oksidējošām gāzēm, piemēram, skābekli un hloru, lai novērstu grafīta oksidēšanos un bojājumus.
30 gadi dziļas tehnoloģiju uzkrāšanas
Temperatūras pieauguma ātrums vakuumā Mazāks vai vienāds ar 30 grādiem / h (pirmie 500 grādi), lai izvairītos no pārmērīga termiskā stresa.
Virs 500 grādiem to var palielināt līdz mazākam vai vienādam ar 100 grādiem / h, lai nodrošinātu konstrukcijas stabilitāti.
Dzesēšanas specifikācijas
Dabiski atdzesējiet vakuumā līdz zem 800 grādiem, pēc tam piepildiet ar inertu gāzi, lai paātrinātu dzesēšanu.
Lai novērstu tīģeļa plaisāšanu, neatdzesējiet ātri (＞50 grādi/min).
Populāri tagi: grafīta tīģelis vakuuma krāsnīm, Ķīnas grafīta tīģelis vakuuma krāsnīm ražotājiem, piegādātājiem, rūpnīcai
